最早應用核徑跡防偽標識是在核技術發展的早期，科學家們主要是利用云霧室來探測核粒子徑跡，這種方法也就是在一個空腔內充滿過飽和蒸氣，然后釋放核粒子，當這些核粒子穿過云霧室時，就會在其經過的路徑上留下一條白色的軌跡，通過拍照保留他的徑跡圖像，這也就是最早期的核徑跡技術了。

    后來隨著和技術的發展又經歷了６０年代的核孔膜。到７０年代初，美國首先進行了商品化生產，我國是在８０年代初，開始研制核孔膜，到８０年代末已具備相當規模的生產能力。

    二.核孔膜做為防偽標識主要是利用選擇性的輻照和蝕刻，在塑料薄膜的局部做成核孔膜，形成特定的圖案，即由微孔組成的人工設計圖案。其防偽原理是：

　　1．核孔膜的制造需要尖端的核技術和昂貴的核設施，這些敏感的核設施都控制在國家級的大型核技術研究單位里，都在國家核安全局的監管之下，造假者很難具備。

　　2．一般核電站的反應堆不能用來制造核徑跡防偽膜，只有特殊結構的反應堆才能用來制造核徑跡防偽標識

　　3．核孔膜的制造需要高質量的科技人員．高能物理技術和核技術，都是當今世界的尖端技術，在世界上也只有少數國家能掌握。

　　4．孔在微觀上分布是不均勻的，按隨機規律分布．由重離子加速器生產的核徑跡防偽標志膜，它的孔道基本是平行的，而用核反應堆生產的核徑跡防偽標志膜，它的孔道是有一定的散射角分布的，后者更不容易仿造

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